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设备无尘打磨房专业生产N年
更新时间:2025-04-27 00:38:56 浏览次数:44 公司名称:赣州 越浩节能设备有限公司
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产品参数 | |
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产品价格 | 98/台 |
发货期限 | 1天 |
供货总量 | 866 |
运费说明 | 免费 |
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有机废气处理设备 吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后,进入汽提塔顶部,在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。 有机废气处理设备 当吸附进行一段时间后,由于表面吸附质的浓集,使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求,此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附,以协的吸附能力,这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程,达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。 等离子体就是处于电离状态的气体,等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成,但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性,这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同,因此又有人把它称为物质的第四种状态。 根据状态、温度和离子密度,等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体(包子体和冷等离子体)。其中高温等离子体的电离度接近1,各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态,它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态,各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti),可达104K以上,而其离子和中性粒子的温度却可低到300~500K
OC废气处理设备从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
吸附脱附催化燃烧设备有文献表明,催化燃烧装置催化焚烧时的“燃气/空气比值”范围一般在4%~11%之间;在必定的焚烧条件之下,燃/空比为6%时,天然气就能完成较好的催化焚烧作用,焚烧体系就可以得到热效率,一起又能取得较好的排放作用。 吸附脱附催化燃烧设备 焚烧器温度调理可以通过文本显示器的键盘输入,改动变频器的输出频率,调理恰当的风量。当风量增大,焚烧温度超越设定值,则PLc操控变频器降低输出频率,减少出风量来安稳焚烧器的温度。若变频器输出频率低于设定值(风机出风量频率,设为5 Hz),而出风量仍高于设定值时,PLc开端计时,若在必定时刻内,降低到设定值,PLc抛弃计时,持续变频调速运转;若在必定时刻内温度仍高于设定,PLc将持续调理,直至到达设定值。由PLc经PID运算后操控变频器的频率输出;如温度不行,则频率上升,延时坚持必定时刻。反之亦然。 化燃烧装置可以说是一种较为常见的通过催化反应(无明火)处理有机污染物的方法,具有适用范围广,结构简单,净化速率高,节能、无二次污染等优点,催化燃烧废气处理,为了避免催化剂床层的堵塞和催化剂中毒,废气在进入床层之前需要进行预处理,以除去废气中的粉尘、液滴及催化剂的毒物。希望大家在选购时选购一款比较适合自己的废气处理设备。
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